門(mén)電路是構(gòu)成各種復(fù)雜數(shù)字電路的基本邏輯單元,反相器、與非門(mén)、或非門(mén)和異或門(mén)是數(shù)字電路中的一種基本功能模塊。通過(guò)該設(shè)計(jì),學(xué)會(huì)Tanner軟件中L-Edit的使用,鞏固和實(shí)踐《集成電路設(shè)計(jì)》等前續(xù)理論所學(xué)知識(shí),掌握集成電路版圖的基本設(shè)計(jì)規(guī)則與設(shè)計(jì)方法,了解集成電路的設(shè)計(jì)流程,理解集成電路版圖和基本工藝層之間的關(guān)系,具備一定的集成電路設(shè)計(jì)能力。 2設(shè)計(jì)內(nèi)容及要求 設(shè)計(jì)的環(huán)節(jié)分為兩個(gè)部分的內(nèi)容:一是必做內(nèi)容,二是從選作內(nèi)容,必做內(nèi)容為CMOS反相器的設(shè)計(jì)。選做內(nèi)容為開(kāi)放性設(shè)計(jì),可以從多個(gè)題中選作一個(gè),也可以自己選題做,通過(guò)設(shè)計(jì)熟悉設(shè)計(jì)規(guī)則與設(shè)計(jì)流程。主要內(nèi)容如下: 1.必做內(nèi)容: (1)CMOS反相器版圖設(shè)計(jì)(最小尺寸) (2)選作內(nèi)容: 2.參考題目有: ①CMOS反相器(NMOS 和PMOS器件尺寸不一致);②CMOS傳輸門(mén); ③兩輸入與非門(mén)或兩輸入或非門(mén);④帶CMOS反相器的CMOS傳輸門(mén);⑤異或門(mén);⑥2-1MUX數(shù)據(jù)選擇器等。 3設(shè)計(jì)內(nèi)容 1.CMOS反相器 CMOS反相器電路由兩個(gè)增強(qiáng)型MOS場(chǎng)效應(yīng)管組成,其中NMOS管稱驅(qū)動(dòng)管,PMOS管稱負(fù)載管。輸入信號(hào)A加在互補(bǔ)的NMOS管和PMOS管的柵極上,輸出從它們的漏極引出。 2.兩輸入與非門(mén) 兩輸入與非門(mén)由兩個(gè)PMOS和兩個(gè)NMOS構(gòu)成。其中,兩個(gè)PMOS作為上拉管,兩個(gè)NMOS作為下拉管,兩個(gè)輸入信號(hào)A和B分別加在兩對(duì)互補(bǔ)的NMOS管和PMOS管的柵極上,輸出從它們的漏極引出。 4設(shè)計(jì)過(guò)程 4.1使用L-EDIT畫(huà)版圖的詳細(xì)步驟: (1)進(jìn)入L-EDIT,建立新文件 打開(kāi)L-Edit程序:L-Edit會(huì)自動(dòng)將工作文件命名為L(zhǎng)ayout1.tdb,選擇執(zhí)行File/Save As子命令,打開(kāi)“另存為”對(duì)話框,在“保存在”下拉列表框中選擇存貯目錄,在“文件名”文本框中輸入新文件名稱---hwb。 (2)環(huán)境設(shè)定 用于將已有的設(shè)計(jì)文件的設(shè)定(如格點(diǎn)、圖層等) 應(yīng)用于當(dāng)前的文件中。選擇執(zhí)行File/Replace Setup子命令打開(kāi)對(duì)話框,單擊“From File”欄填充框的右側(cè)的Browser按鈕,選擇X:\Tanner\Ledit100\Samples\SPR\example1\lights.tdb文件,單擊OK就將lights.tdb文件中的格點(diǎn)、圖層等設(shè)定應(yīng)用在當(dāng)前文件中。 (3)編輯單元 L-Edit編輯方式是以單元(Cell)為單位而不是以文件(File)為單位的,每一個(gè)文件可有多個(gè)Cell,而每一個(gè)Cell可表示一種電路的版圖或說(shuō)明,每次打開(kāi)新文件時(shí)自動(dòng)打開(kāi)一個(gè)Cell并將之命名為Cell0。 (4)設(shè)計(jì)環(huán)境設(shè)置 繪制版圖時(shí)必須要有確定的大小,因此在繪圖前首先要確定或設(shè)定坐標(biāo)與實(shí)際長(zhǎng)度的關(guān)系。選擇執(zhí)行Setup/Design子命令,彈出Setup Design對(duì)話框,在Technology標(biāo)簽頁(yè)中可設(shè)置工藝的名稱、單位等,本文以Lambda為單位。 (5)圖層的設(shè)置 Layers面板的下拉列表中選取圖層。PMOS版圖需要用到N Well、Active、N Select、P select、Ploy、Matal1、Matal2、Active Contact、Via等圖層。 (7)圖形截面圖 選擇Tools/Cross-Section子命令(或單擊按鈕),打開(kāi)Generate Cross-Section對(duì)話框,單擊對(duì)話框中的Browser按鈕,在彈出的對(duì)話框中選擇C:\Tanner\LEdit83\samples\SPR \example1\lights.tdb文件,再單擊Pick按鈕在編輯畫(huà)面中選擇要觀察的位置,然后單擊OK按鈕。單擊截面圖中的關(guān)閉按鈕可取消截面狀態(tài),恢復(fù)到畫(huà)圖狀態(tài)。 (8)設(shè)計(jì)規(guī)則檢查 選擇Tools/DRC命令,打開(kāi)Design Rule Check對(duì)話框,選中Write errors to files復(fù)選框?qū)㈠e(cuò)誤項(xiàng)目記錄到Cell0.drc文件或自行取文件名,若單擊“確定”按鈕,則進(jìn)行設(shè)計(jì)規(guī)則檢查。發(fā)現(xiàn)一個(gè)錯(cuò)誤,單擊“確定”按鈕后,可執(zhí)行Tools/Clear Error Layer命令(或單擊按鈕)清除錯(cuò)誤符號(hào)。 4.2 CMOS反相器的設(shè)計(jì) 
圖4.2.1 PMOS版圖設(shè)計(jì)規(guī)則檢查 
圖4.2.2 PMOS版圖截面圖 - NMOS版圖設(shè)計(jì)

圖4.2.3 NMOS版圖設(shè)計(jì)規(guī)則檢查

圖4.2.4 NMOS版圖截面圖
(3)CMOS反相器版圖設(shè)計(jì)

圖4.2.5 CMOS反相器版圖設(shè)計(jì)規(guī)則檢查

圖4.2.6 COMS反相器版圖截面圖
4.3 兩輸入與非門(mén)的設(shè)計(jì)

圖4.3.1 PMOS版圖設(shè)計(jì)規(guī)則檢查 圖4.3.2 PMOS版圖截面圖
(2)NMOS版圖設(shè)計(jì)
圖4.3.3 NMOS版圖設(shè)計(jì)規(guī)則檢查 圖4.3.4 NMOS版圖截面圖
(3)兩輸入與非門(mén)設(shè)計(jì) 
圖4.3.5 兩輸入與非門(mén)設(shè)計(jì)規(guī)則檢查
圖4.3.6 兩輸入與非門(mén)截面圖
5小結(jié) 1.發(fā)現(xiàn)問(wèn)題及解決方法 (1)在接觸點(diǎn)之間進(jìn)行金屬連接時(shí),由于圖層之間重疊等原因無(wú)法找到具體位置。 解決方法:在layers面板的下拉列表選中需要連接的圖層,再將鼠標(biāo)移至選中圖層的圖標(biāo)上單擊鼠標(biāo)右鍵,在彈出的菜單命令中點(diǎn)擊Hide All即可。要讓圖層重新顯示則選擇Show All命令。 (2)在進(jìn)行截面圖觀察時(shí),截面圖顯示不出來(lái)。 解決方法:將版圖縮小或滾動(dòng)鼠標(biāo)滑輪。 (3)版圖完成后設(shè)計(jì)規(guī)則檢查時(shí),發(fā)現(xiàn)錯(cuò)誤太多。 解決方法:在版圖繪制過(guò)程中,合理進(jìn)行設(shè)計(jì)規(guī)則檢查。
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2019-12-26 12:15 上傳
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